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            PECVD系統應用的說明

            日期:2022-04-06 19:00
            瀏覽次數:68
            摘要:
             PECVD主要是對半導體材料硅的濺射。

            PECVD系統應用:

                1. 廣泛應用于MEMS、先進封裝、功率半導體、LED制造、RF集成電路等領域

                2. 放射方式對稱工藝氣體顯著提高晶圓片內均勻性(WIW)

                3. 多達10路氣體管路,可選on-board液體輸送系統

                4. 復合頻率等離子體能力調節應力

                5. 有源冷卻平臺應用在關鍵,低溫[小于175°C]封裝工藝

                6. 可選敏感的de-gassing襯底材料增加單/多晶圓預加熱腔室

            尊敬的客戶:

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