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            產品詳情
            • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

            • 產品型號:
            • 產品廠商:成越科儀
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
            詳情介紹:

            該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

            電子束蒸發鍍膜儀設備技術參數

            使用條件

            環境溫度

            5℃~40

            電源

            380V

            功率

            20KW

            水壓

            2.5bar

            真空室尺寸

            蒸發室尺寸

            φ500×H500()

            過渡倉庫

            φ280×H300()

            電子槍

            新型電子槍1套,6穴坩堝

            離子源

            考夫曼離子源K08一套

            樣品轉盤

            樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

            系統真空度

            極限真空

            12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

             

            抽氣速率

            從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

             

            系統漏率

            整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

            抽真空系統

            TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

            鍍膜監測

            采用TM160膜厚儀進行監測

            鍍膜厚度的不均勻度

            ≤3%

            豫公網安備 41019702002438號

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